Nb-Zn-Sn-O非晶薄膜的生长与性能

材料科学与工程学报, 2015, 33(6): 814-817. doi: 10.14136/j.cnki.issn 1673-2812.2015.06.008

Nb-Zn-Sn-O非晶薄膜的生长与性能

闫伟超 ^1, , 孙汝杰 ^2, , 陈凌翔 ^3, , 吕建国 ^4, , 叶志镇 ^5,

1.浙江大学材料科学与工程学院,硅材料国家重点实验,浙江杭州310027

2.浙江大学材料科学与工程学院,硅材料国家重点实验,浙江杭州310027

3.浙江大学材料科学与工程学院,硅材料国家重点实验,浙江杭州310027

4.浙江大学材料科学与工程学院,硅材料国家重点实验,浙江杭州310027

5.浙江大学材料科学与工程学院,硅材料国家重点实验,浙江杭州310027

基金项目: 国家自然科学基金重点研究计划资助项目(91333203),国家自然科学基金资助项目(51172204,51002131)

关键词：磁控溅射 , 非晶态 , 薄膜 , 退火

Fabrication and Characterization of Amorphous Nb-Zn-Sn-O Thin Films

Keywords： magnetron sputtering , amorphous , thin films , annealing

采用射频磁控溅射技术,成功制备出能用作薄膜晶体管(TFT)沟道层的非晶态Nb-Zn-Sn-O(NZTO)薄膜.研究了溅射压强、退火处理对NZTO薄膜的材料结构、电学和光学性能的影响,并在溅射功率为120W、溅射压强为0.6Pa且在400℃温度下退火2h后,制备出了电子迁移率达5.5cm2v-1 s-1、载流子浓度在1017以下且可见光透射率为80％以上的薄膜.

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Fabrication and Characterization of Amorphous Nb-Zn-Sn-O Thin Films

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